浙江大學余杭量子研究院研發的機羲近 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」 
，接近 ASML High-NA EUV 標準。度逼代妈25万到三十万起

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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

• 中媒：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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